Solutions avancées de contrôle des procédés pour un rendement, un TRS et une stabilité des procédés améliorés

Solutions avancées de contrôle des procédés pour un rendement, un TRS et une stabilité des procédés améliorés

Le contrôle avancé des procédés (APC) joue un rôle crucial dans la fabrication des semi-conducteurs et de l'électronique de pointe en permettant une optimisation précise des procédés, une amélioration du rendement et une optimisation des performances des équipements. La mise en œuvre réussie d'un système de contrôle avancé des procédés exige une connaissance approfondie des environnements de fabrication et d'assemblage, associée à des technologies d'automatisation innovantes.

Au fil des ans, eInnoSys a mis en œuvre avec succès de multiples solutions de contrôle de processus avancées dans diverses usines de semi-conducteurs et installations d'assemblage, aidant les fabricants à réaliser des améliorations mesurables sur des indicateurs de performance critiques :

  • Amélioration mesurable du rendement : Réduction de la densité des défauts et des rebuts de plaquettes grâce au suivi précoce des variations de dérive.
  • Temps de cycle optimisé : Rationalisation de l'exécution des recettes et réduction des temps d'inactivité des processus.
  • Amélioration de l'efficacité globale des équipements (OEE) : Optimisation des performances des outils, du débit et de la disponibilité des équipements.

Aperçu des solutions

eInnoSys Nous proposons des logiciels de contrôle de processus avancés haute performance conçus pour surveiller, analyser et optimiser les processus de fabrication en temps réel. Nos solutions APC intègrent l'analyse de données, l'automatisation et la modélisation prédictive afin d'améliorer la stabilité des processus et l'efficacité de la production.

Contrôle de production en continu (R2R) et contrôle de plaquette à plaquette (W2W)

eInnoSys Ce système offre des solutions de contrôle avancées de production en continu et de plaquette à plaquette, analysant les données de processus et prenant les mesures correctives appropriées lors des opérations de chargement et de déchargement des plaquettes. Il peut automatiquement interrompre l'alimentation en cas de besoin afin de prévenir les défauts et d'améliorer la régularité de la production.

Systèmes de contrôle de rétroaction

Intégration de la mesure de superposition dans les moteurs pas à pas

En intégrant directement les mesures de métrologie de superposition dans l'équipement de déplacement pas à pas, eInnoSys Les solutions APC améliorent considérablement la précision d'alignement, ce qui permet :

  • Rendement amélioré
  • Meilleure stabilité du processus
  • Temps de cycle réduit
  • Amélioration des performances OEE

Intégration des résultats métrologiques dans les équipements de production

Cette intégration permet des corrections de processus automatisées et garantit une qualité de production constante. eInnoSys Les solutions APC intègrent de manière transparente les données métrologiques directement dans les étapes critiques du processus, notamment :

  • Grinders
  • Polisseurs

APC vs. FDC vs. SPC : Principales différences

Système
Objectif de base
Fonction primaire

APC
Contrôle de processus
Ajuste activement les paramètres de l'outil en temps réel (d'exécution en exécution) pour maintenir la sortie dans les plages cibles.

FDC
Santé des équipements
Surveille les capteurs des outils pendant le traitement afin de détecter les écarts, les alarmes ou les pannes matérielles potentielles.

CPS
Statistiques de qualité
Analyse les données métrologiques historiques pour déterminer si le processus est statistiquement stable dans le temps.

*Remarque : APC gère « l’ajustement », FDC gère « l’état de l’outil » et SPC gère « la tendance de qualité à long terme ».

Intégration technique et assistance tout au long du cycle de vie

Intégration : Capability

Notre architecture de contrôle de processus avancé comble les lacunes en matière de données en connectant de manière transparente l'instrumentation des outils aux réseaux hôtes de l'usine :

  • Outils de métrologie : Ingérer instantanément les données d'inspection pour calibrer les processus en aval.
  • Équipement de stepper : Correction de superposition en temps réel pour optimiser l'alignement lithographique.
  • Équipement de traitement : Boucles de rétroaction en boucle fermée conçues pour des variantes matérielles telles que les meuleuses et les polisseuses.
  • Systèmes MES : Communication de répartition synchronisée avec les couches d'exécution de la production de l'entreprise.
  • Plateformes d'automatisation d'usine : Compatibilité totale avec les structures de contrôleurs de station existantes.
  • Systèmes IoT industriels : Agrégation intelligente de capteurs via des nœuds périphériques de réseau industriel haute fréquence.

Soutien & Entretien

eInnoSys propose des cycles de vie complets et dédiés d'assistance technique afin de maintenir une fiabilité de base optimale pour les installations de fabrication de semi-conducteurs à l'échelle mondiale :

  • Surveillance des performances du système : Suivi continu des boucles de contrôle pour prévenir la dégradation de la modélisation mathématique.
  • Mises à jour et améliorations logicielles : Mises à jour continues pour s'adapter aux versions changeantes du protocole de communication des outils.
  • Assistance technique et dépannage : Des équipes d'ingénierie spécialisées sont disponibles pour minimiser les interruptions de production coûteuses.
  • Consultation en amélioration continue des processus : Des analyses régulières pour optimiser les variables de l'algorithme et améliorer le rendement à long terme.
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Nos solutions APC aident les fabricants

  • Améliorer le rendement et la qualité des produits
  • Optimiser le temps de cycle
  • Améliorer l'efficacité globale des équipements (OEE)
  • Réduire la variabilité des processus
  • Améliorer l'efficacité de la production
  • Permettre la prise de décisions fondées sur les données

Principales caractéristiques de nos solutions logicielles

Surveillance des processus en temps réel

01

Systèmes automatisés de rétroaction et de contrôle

02

Intégration avec les équipements de métrologie et de process

03

Analyse basée sur l'IA et l'apprentissage automatique

04

Analyse des processus du Big Data

05

Collecte de données via l'IoT

06

Architecture logicielle évolutive

07

Principaux avantages

Rendement

Amélioration du rendement et de la qualité du produit

Cohérence

Variabilité réduite du processus

Temps de cycle

Performances améliorées du temps de cycle

OEE

Amélioration de l'efficacité globale des équipements

Efficacité

Efficacité de production accrue

Automatisation

Intervention manuelle réduite

Stabilité

Meilleur contrôle et stabilité des processus

Industries

en-1

Usines de fabrication de plaquettes de semi-conducteurs

en-2

Installations OSAT et d'assemblage et de test

en-3

Fabrication électronique

en-4

Fabricants d'équipements pour semi-conducteurs OEM

image 006

Fabrication industrielle avancée

Défis de l'industrie

Les défis de l'industrie que nous résolvons

  • Variabilité et instabilité des processus
  • Perte de rendement due à un désalignement ou à une dérive du processus
  • Absence de retour d'information en temps réel sur le processus
  • Complexité croissante des processus
  • Cycle de production élevé
  • Utilisation limitée des données
  • Ajustements manuels du processus

Catégories de solutions / Solutions basées sur des cas d'utilisation

Einnosys propose des solutions de systèmes de contrôle de processus avancés et personnalisés, adaptés aux différentes exigences des processus de fabrication :

  • Contrôle de processus en continu
  • Optimisation du processus de fabrication de plaquettes à plaquettes
  • Solutions de contrôle de superposition
  • Contrôle par rétroaction métrologique
  • Surveillance de la stabilité des procédés
  • Solutions d'optimisation du rendement
  • Automatisation des processus en temps réel

Processus de mise en œuvre et de déploiement

01
Évaluation des processus et analyse des exigences

Évaluation des processus et analyse des exigences

02
Évaluation des équipements et des données métrologiques

Évaluation des équipements et des données métrologiques

03
Conception et personnalisation de solutions APC

Conception et personnalisation de solutions APC

04
Intégration aux systèmes de fabrication existants

Intégration aux systèmes de fabrication existants

05
Test et Validation

Test et Validation

06
Déploiement et validation

Déploiement et validation

07
Surveillance et optimisation continues des performances

Surveillance et optimisation continues des performances

La technologie & Expertise

Einnosys associe une expertise de pointe en automatisation aux technologies numériques modernes pour fournir des solutions APC hautes performances.

Notre expertise comprend

  • choisissez Big Data Analytics
  • choisissez Intégration de l'Internet des objets (IoT)
  • choisissez Ingénierie en automatisation industrielle
  • choisissez Ingénierie en automatisation industrielle
  • choisissez Optimisation des procédés de fabrication des semi-conducteurs
  • choisissez Analyses de fabrication avancées

Architecture système / Approche technique

Les solutions Einnosys APC utilisent une architecture évolutive qui collecte des données en temps réel provenant des équipements de process, des instruments de métrologie et des systèmes d'automatisation. Ces données sont analysées à l'aide d'algorithmes avancés et de modèles d'IA afin d'ajuster automatiquement les paramètres de process et de maintenir des performances de production optimales.

Notre approche technique comprend :

  • choisissez Collecte de données d'équipement en temps réel
  • choisissez Boucles de rétroaction des processus automatisés
  • choisissez Modélisation prédictive des processus
  • choisissez Intégration avec les systèmes de fabrication

Sécurité & Conformité

Les solutions Einnosys APC respectent les meilleures pratiques du secteur en matière de sécurité des systèmes et de protection des données. Nous garantissons une communication de données sécurisée, un accès contrôlé aux systèmes et la conformité aux normes de l'industrie des semi-conducteurs.

  • choisissez Communication de données sécurisée
  • choisissez Accès contrôlé au système
  • choisissez Protection et intégrité des données
  • choisissez Conformité aux normes de l'industrie

Optimisez votre processus de fabrication grâce à des solutions de contrôle de processus avancées

Collaborez avec Einnosys pour mettre en œuvre des solutions de contrôle de processus avancées éprouvées qui améliorent le rendement, renforcent la stabilité des processus et optimisent les performances de fabrication.

Pourquoi choisir eInnoSys ?

Expérience avérée dans la mise en œuvre de systèmes de contrôle de processus avancés

Solide expertise dans le domaine des semi-conducteurs

Intégration des technologies d'IA, d'IoT et de Big Data

Solutions APC personnalisées pour des besoins de fabrication uniques

Déploiements de projets mondiaux réussis

Équipe d'ingénierie et de support technique dédiée

Études de cas

Planifiez une consultation technique gratuite

Contactez nos experts pour discuter de vos besoins en matière de fabrication et de production à la demande (OEM) et pour explorer la solution la mieux adaptée à vos opérations.

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    Foire aux questions

    Qu'est-ce que le contrôle avancé des processus (APC) ?

    Le contrôle avancé des processus est une technologie de contrôle de la fabrication qui utilise l'analyse des données, les boucles de rétroaction et l'automatisation pour maintenir des performances de processus optimales et améliorer le rendement.

    Comment APC améliore-t-il la fabrication des semi-conducteurs ?

    L'APC réduit la variabilité des processus, améliore le contrôle des équipements, augmente le rendement et optimise le temps de cycle grâce à des ajustements automatisés basés sur les données.

    L'APC peut-il s'intégrer aux systèmes de fabrication existants ?

    Oui. Les solutions Einnosys APC s'intègrent aux outils de métrologie, aux équipements de process, aux systèmes MES et aux systèmes d'automatisation d'usine.