歩留まり、OEE、プロセス安定性を向上させるための高度なプロセス制御ソリューション
高度プロセス制御（APC）は、精密なプロセス最適化、歩留まり向上、装置性能強化を可能にすることで、半導体および先端電子機器製造において重要な役割を果たします。高度プロセス制御システムの導入を成功させるには、製造工場および組立環境に関する深い理解と、革新的な自動化技術の活用が不可欠です。
長年にわたり、 eInnoSys 複数の半導体工場および組立施設において、高度なプロセス制御ソリューションを数多く導入することに成功し、製造業者が重要な性能ベンチマークにおいて目に見える改善を達成できるよう支援してきました。
- 測定可能な収量改善： 初期ばらつきの追跡により、欠陥密度とウェハーの廃棄率を低減する。
- 最適化されたサイクルタイム: レシピの実行を効率化し、プロセスのアイドル状態のオーバーヘッドを削減する。
- 総合設備効率（OEE）の向上： ツールの性能、処理能力、および機器の稼働時間を最大化する。
ソリューションの概要
eInnoSys 当社は、製造プロセスをリアルタイムで監視、分析、最適化するために設計された高性能な高度プロセス制御ソフトウェアを提供しています。当社のAPCソリューションは、データ分析、自動化、予測モデリングを統合することで、プロセスの安定性と生産効率を向上させます。
ランツーラン（R2R）制御およびウェーハツーウェーハ（W2W）制御
eInnoSys 本システムは、プロセスデータを分析し、ウェハーのアンロードおよびロード操作中に適切な是正措置を講じる、高度なランツーランおよびウェハーツーウェハー制御ソリューションを提供します。必要に応じて供給停止を自動的に実行することで、不良を防止し、製造の一貫性を向上させます。
フィードバック制御システム
ステッパーへのオーバーレイ測定データの供給
オーバーレイ計測値をステッパー装置に直接入力することで、 eInnoSys APCソリューションはアライメント精度を大幅に向上させ、以下の結果をもたらします。
- 収量の向上
- プロセス安定性の向上
- サイクルタイムの短縮
- OEEパフォーマンスの向上
計測結果をプロセス機器に入力する
この統合により、プロセスの自動修正が可能になり、一貫した生産品質が保証されます。 eInnoSys APCソリューションは、計測データを重要なプロセスステップに直接シームレスに統合します。これには以下が含まれます。
- グラインダ
- ポリッシャー
APC、FDC、SPC：主な違い
※注：APCは「調整」を、FDCは「ツールの状態」を、SPCは「長期的な品質傾向」を処理します。
技術統合およびライフサイクルサポート
統合 機能
当社の高度なプロセス制御アーキテクチャは、ツール計測機器と工場ホストネットワークをシームレスに接続することで、データギャップを解消します。
- 計測ツール: 検査データを即座に取り込み、下流工程の調整に活用する。
- ステッパー機器： リソグラフィの位置合わせを最適化するためのリアルタイム重ね合わせ補正フィード。
- プロセス機器: グラインダーやポリッシャーなどのハードウェア向けに構築されたクローズドループフィードバックループ。
- MESシステム： 企業の製造実行レイヤーとの同期されたディスパッチ通信。
- 工場自動化プラットフォーム： 既存の駅制御システムとの完全な互換性。
- 産業用IoTシステム: 高周波産業ネットワークエッジノードを介したスマートセンサー集約。
サポート ＆ メンテナンス
eInnoSysは、グローバルな製造工場設備の最適なベースライン信頼性を維持するために、完全かつ専用のエンジニアリングサポートライフサイクルを提供します。
- システムパフォーマンス監視: 数学モデルの劣化を防ぐため、制御ループを継続的に監視する。
- ソフトウェアのアップデートと機能強化： ツール間の通信プロトコルのバージョン変更に対応するための継続的なパッチ適用。
- テクニカルサポートとトラブルシューティング: 高コストな製造工程の中断を最小限に抑えるための専門エンジニアリングチームが利用可能です。
- 継続的なプロセス改善に関するコンサルティング： 長期的な収益向上を目指し、アルゴリズム変数を最適化するための定期的な見直し。
当社のAPCソリューションは製造業者を支援します
- 収量と製品品質の向上
- サイクルタイムの最適化
- 総合設備効率（OEE）の向上
- プロセスのばらつきを低減する
- 製造効率の向上
- データに基づいたプロセス意思決定を可能にする
当社のソフトウェアソリューションにおける主な特長
リアルタイムプロセス監視
自動フィードバックおよび制御システム
計測機器およびプロセス機器との統合
AIと機械学習に基づく分析
ビッグデータ処理分析
IoTを活用したデータ収集
スケーラブルなソフトウェアアーキテクチャ
主なメリット
産出
収量と製品品質の向上
一貫性
プロセスの変動性の低減
サイクルタイム
サイクルタイム性能の向上
OEE
総合的な設備効率の向上
効率化
生産効率の向上
オートメーション
手作業によるプロセス介入の削減
安定性
プロセス制御と安定性の向上
Industries We Serve
半導体ウェハー製造工場
OSATおよび組立・試験設備
エレクトロニクス製造
OEM半導体製造装置メーカー
先進的な工業製造
業界の課題
私たちが解決する業界の課題
- プロセスの変動性と不安定性
- 位置ずれまたはプロセスドリフトによる歩留まり低下
- リアルタイムのプロセスフィードバックの欠如
- プロセスの複雑化
- 生産サイクルタイムが長い
- データ利用制限
- 手動プロセス調整
ソリューションカテゴリ／ユースケースベースのソリューション
Einnosysは、さまざまな製造プロセス要件に合わせてカスタマイズされた高度なプロセス制御システムソリューションを提供します。
- 実行ごとのプロセス制御
- ウェハ間プロセス最適化
- オーバーレイ制御ソリューション
- 計測フィードバック制御
- プロセス安定性監視
- 歩留まり最適化ソリューション
- リアルタイムプロセス自動化
実装および展開プロセス
プロセス評価と要件分析
機器および計測データの評価
APCソリューションの設計とカスタマイズ
既存の製造システムとの統合
テストと検証
展開と検証
継続的なパフォーマンスの監視と最適化
テクノロジー ＆ 専門性
Einnosysは、高度な自動化技術と最新のデジタル技術を組み合わせ、高性能なAPCソリューションを提供します。
私たちの専門知識には以下が含まれます
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ビッグデータ分析
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モノのインターネット (IoT) の統合
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産業オートメーション工学
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産業オートメーション工学
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半導体プロセス最適化
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高度な製造分析
システムアーキテクチャ / 技術的アプローチ
EinnosysのAPCソリューションは、プロセス機器、計測ツール、自動化システムからリアルタイムデータを収集する拡張性の高いアーキテクチャを採用しています。収集されたデータは、高度なアルゴリズムとAIモデルを用いて分析され、プロセスパラメータを自動的に調整し、最適な生産性能を維持します。
当社の技術的アプローチには以下が含まれます。
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リアルタイム機器データ収集
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自動化されたプロセスフィードバックループ
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予測プロセスモデリング
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製造システムとの統合
セキュリティ＆ コンプライアンス
EinnosysのAPCソリューションは、システムセキュリティとデータ保護に関する業界のベストプラクティスに準拠しています。安全なデータ通信、制御されたシステムアクセス、そして半導体業界標準への準拠を保証します。
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安全なデータ通信
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制御されたシステムアクセス
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データ保護とデータ整合性
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業界標準への準拠
高度なプロセス制御ソリューションで製造プロセスを最適化
Einnosysと提携して、歩留まりの向上、プロセスの安定性強化、製造パフォーマンスの最適化を実現する、実績のある高度なプロセス制御ソリューションを導入しましょう。
eInnoSysを選ぶ理由
高度なプロセス制御の実装における実績
半導体分野における高度な専門知識
AI、IoT、ビッグデータ技術の統合
独自の製造ニーズに対応するカスタマイズされたAPCソリューション
グローバルプロジェクトの展開成功
専任のエンジニアリングおよび技術サポートチーム
ケーススタディ
当社がグローバルメーカーのレシピ選択エラーを99.9%削減するのにどのように貢献したか
レシピ選択の誤りによる製造エラーは、ウェハーの不良品の増加、生産遅延、および運用コストの増加につながる可能性があります。
SECS/GEMとMQTTの連携：米国の半導体製造工場がEIGEMBridgeでグローバルなリアルタイム可視性を実現した方法
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ウェハーの反り：先進半導体パッケージングにおける最大の課題の一つ
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プロフィールよくある質問
高度プロセス制御（APC）とは何ですか？
高度プロセス制御とは、データ分析、フィードバックループ、自動化を活用して最適なプロセス性能を維持し、歩留まりを向上させる製造制御技術である。
APCは半導体製造をどのように改善するのか？
APCは、自動化されたデータ駆動型調整により、工程のばらつきを低減し、機器制御を改善し、歩留まりを向上させ、サイクルタイムを最適化します。
APCは既存の製造システムと統合できますか？
はい。EinnosysのAPCソリューションは、計測機器、プロセス機器、MES、および工場自動化システムと統合できます。