歩留まり、OEE、プロセス安定性を向上させるための高度なプロセス制御ソリューション

歩留まり、OEE、プロセス安定性を向上させるための高度なプロセス制御ソリューション

高度プロセス制御(APC)は、精密なプロセス最適化、歩留まり向上、装置性能強化を可能にすることで、半導体および先端電子機器製造において重要な役割を果たします。高度プロセス制御システムの導入を成功させるには、製造工場および組立環境に関する深い理解と、革新的な自動化技術の活用が不可欠です。

eInnoSysは長年にわたり、様々な半導体工場や組立施設において、複数の高度なプロセス制御ソリューションを成功裏に導入し、製造業者が重要な性能ベンチマークにおいて目に見える改善を達成できるよう支援してきました。

  • 測定可能な収量改善: 初期ばらつきの追跡により、欠陥密度とウェハーの廃棄率を低減する。
  • 最適化されたサイクルタイム: レシピの実行を効率化し、プロセスのアイドル状態のオーバーヘッドを削減する。
  • 総合設備効率(OEE)の向上: ツールの性能、処理能力、および機器の稼働時間を最大化する。

ソリューションの概要

eInnoSysは、製造プロセスをリアルタイムで監視、分析、最適化するために設計された高性能な高度プロセス制御ソフトウェアを提供しています。当社のAPCソリューションは、データ分析、自動化、予測モデリングを統合することで、プロセスの安定性と生産効率を向上させます。

ランツーラン(R2R)制御およびウェーハツーウェーハ(W2W)制御

eInnoSysは、プロセスデータを分析し、ウェハのアンロードおよびロード操作中に適切な是正措置を実行する、高度なランツーランおよびウェハツーウェハ制御ソリューションを提供します。このシステムは、必要に応じて供給を自動的に停止することで、欠陥を防止し、製造の一貫性を向上させることができます。

フィードバック制御システム

ステッパーへのオーバーレイ測定データの供給

eInnoSysのAPCソリューションは、オーバーレイ計測値をステッピングモーター装置に直接入力することで、アライメント精度を大幅に向上させ、以下の結果をもたらします。

  • 収量の向上
  • プロセス安定性の向上
  • サイクルタイムの短縮
  • OEEパフォーマンスの向上

計測結果をプロセス機器に入力する

この統合により、自動化されたプロセス補正が可能になり、一貫した生産品質が保証されます。eInnoSys APCソリューション、計測データを以下の重要なプロセスステップに直接シームレスに統合します。

  • グラインダ
  • ポリッシャー

APC、FDC、SPC:主な違い

システム
コアフォーカス
主な機能

APC
プロセス制御
出力が目標範囲内に収まるように、ツールパラメータをリアルタイム(実行ごと)で積極的に調整します。

FDC
機器の健全性
加工中にツールセンサーを監視し、異常、アラーム、または潜在的なハードウェア障害を検出します。

SPC
品質統計
過去の計測データを分析し、そのプロセスが時間的に統計的に安定しているかどうかを判断する。

※注:APCは「調整」を、FDCは「ツールの状態」を、SPCは「長期的な品質傾向」を処理します。

技術統合およびライフサイクルサポート

統合 機能

当社の高度なプロセス制御アーキテクチャは、ツール計測機器と工場ホストネットワークをシームレスに接続することで、データギャップを解消します。

  • 計測ツール: 検査データを即座に取り込み、下流工程の調整に活用する。
  • ステッパー機器: リソグラフィの位置合わせを最適化するためのリアルタイム重ね合わせ補正フィード。
  • プロセス機器: グラインダーやポリッシャーなどのハードウェア向けに構築されたクローズドループフィードバックループ。
  • MESシステム: 企業の製造実行レイヤーとの同期されたディスパッチ通信。
  • 工場自動化プラットフォーム: 既存の駅制御システムとの完全な互換性。
  • 産業用IoTシステム: 高周波産業ネットワークエッジノードを介したスマートセンサー集約。

サポート & メンテナンス

eInnoSysは、グローバルな製造工場設備の最適なベースライン信頼性を維持するために、完全かつ専用のエンジニアリングサポートライフサイクルを提供します。

  • システムパフォーマンス監視: 数学モデルの劣化を防ぐため、制御ループを継続的に監視する。
  • ソフトウェアのアップデートと機能強化: ツール間の通信プロトコルのバージョン変更に対応するための継続的なパッチ適用。
  • テクニカルサポートとトラブルシューティング: 高コストな製造工程の中断を最小限に抑えるための専門エンジニアリングチームが利用可能です。
  • 継続的なプロセス改善に関するコンサルティング: 長期的な収益向上を目指し、アルゴリズム変数を最適化するための定期的な見直し。
ケープ2

当社のAPCソリューションは製造業者を支援します

  • 収量と製品品質の向上
  • サイクルタイムの最適化
  • 総合設備効率(OEE)の向上
  • プロセスのばらつきを低減する
  • 製造効率の向上
  • データに基づいたプロセス意思決定を可能にする

当社のソフトウェアソリューションにおける主な特長

リアルタイムプロセス監視

01

自動フィードバックおよび制御システム

02

計測機器およびプロセス機器との統合

03

AIと機械学習に基づく分析

04

ビッグデータ処理分析

05

IoTを活用したデータ収集

06

スケーラブルなソフトウェアアーキテクチャ

07

主なメリット

産出

収量と製品品質の向上

一貫性

プロセスの変動性の低減

サイクルタイム

サイクルタイム性能の向上

OEE

総合的な設備効率の向上

効率化

生産効率の向上

オートメーション

手作業によるプロセス介入の削減

安定性

プロセス制御と安定性の向上

Industries We Serve

1で

半導体ウェハー製造工場

2で

OSATおよび組立・試験設備

3で

エレクトロニクス製造

4で

OEM半導体製造装置メーカー

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先進的な工業製造

業界の課題

私たちが解決する業界の課題

  • プロセスの変動性と不安定性
  • 位置ずれまたはプロセスドリフトによる歩留まり低下
  • リアルタイムのプロセスフィードバックの欠如
  • プロセスの複雑化
  • 生産サイクルタイムが長い
  • データ利用制限
  • 手動プロセス調整

ソリューションカテゴリ/ユースケースベースのソリューション

Einnosysは、さまざまな製造プロセス要件に合わせてカスタマイズされた高度なプロセス制御システムソリューションを提供します。

  • 実行ごとのプロセス制御
  • ウェハ間プロセス最適化
  • オーバーレイ制御ソリューション
  • 計測フィードバック制御
  • プロセス安定性監視
  • 歩留まり最適化ソリューション
  • リアルタイムプロセス自動化

実装および展開プロセス

01
プロセス評価と要件分析

プロセス評価と要件分析

02
機器および計測データの評価

機器および計測データの評価

03
APCソリューションの設計とカスタマイズ

APCソリューションの設計とカスタマイズ

04
既存の製造システムとの統合

既存の製造システムとの統合

05
テストと検証

テストと検証

06
展開と検証

展開と検証

07
継続的なパフォーマンスの監視と最適化

継続的なパフォーマンスの監視と最適化

テクノロジー & 専門性

Einnosysは、高度な自動化技術と最新のデジタル技術を組み合わせ、高性能なAPCソリューションを提供します。

私たちの専門知識には以下が含まれます

  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 ビッグデータ分析
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 モノのインターネット (IoT) の統合
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 産業オートメーション工学
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 産業オートメーション工学
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 半導体プロセス最適化
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 高度な製造分析

システムアーキテクチャ / 技術的アプローチ

EinnosysのAPCソリューションは、プロセス機器、計測ツール、自動化システムからリアルタイムデータを収集する拡張性の高いアーキテクチャを採用しています。収集されたデータは、高度なアルゴリズムとAIモデルを用いて分析され、プロセスパラメータを自動的に調整し、最適な生産性能を維持します。

当社の技術的アプローチには以下が含まれます。

  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 リアルタイム機器データ収集
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 自動化されたプロセスフィードバックループ
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 予測プロセスモデリング
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 製造システムとの統合

セキュリティ& コンプライアンス

EinnosysのAPCソリューションは、システムセキュリティとデータ保護に関する業界のベストプラクティスに準拠しています。安全なデータ通信、制御されたシステムアクセス、そして半導体業界標準への準拠を保証します。

  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 安全なデータ通信
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 制御されたシステムアクセス
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 データ保護とデータ整合性
  • PowerSchoolで、緊急連絡先情報を定期的にチェックし、 業界標準への準拠

高度なプロセス制御ソリューションで製造プロセスを最適化

Einnosysと提携して、歩留まりの向上、プロセスの安定性強化、製造パフォーマンスの最適化を実現する、実績のある高度なプロセス制御ソリューションを導入しましょう。

eInnoSysを選ぶ理由

高度なプロセス制御の実装における実績

半導体分野における高度な専門知識

AI、IoT、ビッグデータ技術の統合

独自の製造ニーズに対応するカスタマイズされたAPCソリューション

グローバルプロジェクトの展開成功

専任のエンジニアリングおよび技術サポートチーム

ケーススタディ

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当社の専門家にご相談いただき、OEMおよびFAB/ATPに関するご要望をお聞かせください。お客様の業務に最適なソリューションをご提案いたします。

    業界の洞察

    ファブ対オサット
    • マイク・ブラウン著
    • Blog

    FABとOSAT:半導体製造の2つの柱を理解する

    世界の半導体産業は、AIコンピューティング、電気、電子工学などの分野に牽引され、他の多くの分野に匹敵しないペースで拡大している。

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    予測保全と故障検出のためのスマートFDCフレームワーク
    • マイク・ブラウン著
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    半導体工場は厳しい利益率で運営されている。計画外の装置停止が一度でも発生すれば、数時間の生産損失や不良品の発生につながる可能性がある。

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    工場自動化向けSECS GEMドライバーを選ぶ際に注目すべきトップ10の機能
    • ニラヴ・タッカー著
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    工場自動化向けSECS/GEMドライバーで注目すべきトップ10の機能

    半導体製造は、精度、速度、そして完全なデータ整合性の上に成り立っています。その方程式の中心にあるのが装置です…。

    プロフィール

    よくある質問

    高度プロセス制御(APC)とは何ですか?

    高度プロセス制御とは、データ分析、フィードバックループ、自動化を活用して最適なプロセス性能を維持し、歩留まりを向上させる製造制御技術である。

    APCは半導体製造をどのように改善するのか?

    APCは、自動化されたデータ駆動型調整により、工程のばらつきを低減し、機器制御を改善し、歩留まりを向上させ、サイクルタイムを最適化します。

    APCは既存の製造システムと統合できますか?

    はい。EinnosysのAPCソリューションは、計測機器、プロセス機器、MES、および工場自動化システムと統合できます。