고급 공정 제어(APC) 소프트웨어

수율, 종합 설비 효율(OEE) 및 공정 안정성 향상을 위한 고급 공정 제어 솔루션

첨단 공정 제어(APC)는 정밀한 공정 최적화, 수율 향상 및 장비 성능 개선을 가능하게 함으로써 반도체 및 첨단 전자 제품 제조에 매우 중요한 역할을 합니다. 첨단 공정 제어 시스템을 성공적으로 구현하려면 제조 및 조립 환경에 대한 철저한 이해와 혁신적인 자동화 기술이 결합되어야 합니다.

수년에 걸쳐, 이이노시스 다양한 반도체 공장 및 조립 시설에 걸쳐 여러 고급 공정 제어 솔루션을 성공적으로 구현하여 제조업체가 주요 성능 지표에서 측정 가능한 개선을 달성할 수 있도록 지원했습니다.

측정 가능한 수확량 향상: 초기 변동 추적을 통해 결함 밀도와 웨이퍼 폐기량을 줄입니다.
최적화된 사이클 시간: 레시피 실행을 간소화하고 프로세스 유휴 시간으로 인한 추가 비용을 줄입니다.
전반적인 설비 효율(OEE) 향상: 공구 성능, 처리량 및 장비 가동 시간을 극대화합니다.

솔루션 개요

이이노시스 당사는 제조 공정을 실시간으로 모니터링, 분석 및 최적화하도록 설계된 고성능 고급 공정 제어 소프트웨어를 제공합니다. 당사의 APC 솔루션은 데이터 분석, 자동화 및 예측 모델링을 통합하여 공정 안정성과 생산 효율성을 향상시킵니다.

런투런(R2R) 제어 및 웨이퍼투웨이퍼(W2W) 제어

이이노시스 이 시스템은 공정 데이터를 분석하고 웨이퍼 언로드 및 로드 작업 중 적절한 시정 조치를 취하는 고급 런투런(Run-to-Run) 및 웨이퍼투웨이퍼(Wafer-to-Wafer) 제어 솔루션을 제공합니다. 또한 필요에 따라 공급을 자동으로 중지하여 결함을 방지하고 제조 일관성을 향상시킬 수 있습니다.

피드백 제어 시스템

스테퍼에 오버레이 측정값 입력하기

오버레이 계측 측정값을 스테퍼 장비에 직접 입력함으로써, 이이노시스 APC 솔루션은 정렬 정확도를 크게 향상시켜 다음과 같은 결과를 가져옵니다.

향상된 수율
더 나은 프로세스 안정성
사이클 시간 단축
OEE 성능 향상

계측 결과를 공정 장비에 입력하기

이러한 통합을 통해 자동화된 공정 수정이 가능해지고 일관된 생산 품질을 보장할 수 있습니다. 이이노시스 APC 솔루션은 계측 데이터를 다음과 같은 주요 공정 단계에 원활하게 통합합니다.

그라인더
폴리 셔

APC, FDC, SPC: 주요 차이점

시스템

핵심 초점

주요 기능

APC

공정 제어

출력값이 목표 범위 내에 유지되도록 도구 매개변수를 실시간으로(실행마다) 적극적으로 조정합니다.

FDC

장비 상태

가공 과정 중 공구 센서를 모니터링하여 편차, 경보 또는 잠재적인 하드웨어 오류를 감지합니다.

SPC

품질 통계

과거 계측 데이터를 분석하여 해당 공정이 시간에 따라 통계적으로 안정적인지 여부를 판단합니다.

*참고: APC는 "조정"을, FDC는 "공구 상태"를, SPC는 "장기 품질 추세"를 담당합니다.

기술 통합 및 라이프사이클 지원

통합 능력

당사의 고급 공정 제어 아키텍처는 장비 계측 장비와 공장 호스트 네트워크를 원활하게 연결하여 데이터 격차를 해소합니다.

계측 도구: 검사 데이터를 즉시 수집하여 후속 프로세스를 보정합니다.
스테퍼 장비: 실시간 오버레이 보정 기능을 통해 리소그래피 정렬을 최적화합니다.
공정 장비: 그라인더 및 폴리셔와 같은 다양한 하드웨어 변형에 맞춰 설계된 폐쇄 루프 피드백 시스템.
MES 시스템: 기업 제조 실행 계층과의 동기화된 배송 통신.
공장 자동화 플랫폼: 기존 방송국 제어기 구조와의 완벽한 호환성을 제공합니다.
산업용 IoT 시스템: 고주파 산업용 네트워크 엣지 노드를 통한 스마트 센서 통합.

지원하다 & 유지보수

eInnoSys는 전 세계 반도체 제조 시설의 최적 기본 신뢰성을 유지하기 위해 완벽하고 전문적인 엔지니어링 지원 라이프사이클을 제공합니다.

시스템 성능 모니터링: 수학적 모델의 성능 저하를 방지하기 위해 제어 루프를 지속적으로 추적합니다.
소프트웨어 업데이트 및 개선 사항: 변경되는 도구 통신 프로토콜 버전에 맞춰 지속적인 패치를 제공합니다.
기술 지원 및 문제 해결: 고비용의 제조 공정 중단 시간을 최소화하기 위해 전문 엔지니어링 팀이 지원 가능합니다.
지속적인 프로세스 개선 컨설팅: 정기적인 검토를 통해 알고리즘 변수를 최적화하여 장기적인 수익률 향상을 도모합니다.

당사의 APC 솔루션은 제조업체를 지원합니다.

수확량 및 제품 품질 향상
사이클 타임 최적화
전반적인 설비 효율(OEE) 향상
공정 변동성 감소
제조 효율성 향상
데이터 기반 프로세스 의사 결정 지원

당사 소프트웨어 솔루션의 주요 특징

실시간 공정 모니터링

자동 피드백 및 제어 시스템

계측 및 공정 장비와의 통합

AI 및 머신러닝 기반 분석

빅데이터 프로세스 분석

IoT 지원 데이터 수집

확장 가능한 소프트웨어 아키텍처

핵심 장점

수율

수확량 및 제품 품질 향상

일관성

감소된 프로세스 변동성

사이클 타임

향상된 사이클 시간 성능

OEE

전반적인 장비 효율성 향상

여과 효율

생산 효율성 향상

자동화

수동 프로세스 개입 감소

안정

향상된 공정 제어 및 안정성

산업분야

반도체 웨이퍼 제조

OSAT 및 조립/시험 시설

전자 제품 제조

OEM 반도체 장비 제조업체

첨단 산업 제조

업계 과제

우리가 해결하는 산업 과제

공정 변동성 및 불안정성
정렬 불량 또는 공정 편차로 인한 수율 손실
실시간 프로세스 피드백 부족
프로세스 복잡성 증가
높은 생산 주기 시간
데이터 활용 제한
수동 프로세스 조정

솔루션 범주 / 사용 사례 기반 솔루션

Einnosys는 다양한 제조 공정 요구 사항에 맞춘 맞춤형 고급 공정 제어 시스템 솔루션을 제공합니다.

실행 간 프로세스 제어
웨이퍼 간 공정 최적화
오버레이 제어 솔루션
계측 피드백 제어
프로세스 안정성 모니터링
수확량 최적화 솔루션
실시간 프로세스 자동화

구현 및 배포 프로세스

프로세스 평가 및 요구사항 분석

장비 및 계측 데이터 평가

APC 솔루션 설계 및 맞춤화

기존 제조 시스템과의 통합

테스트 및 검증

배포 및 검증

지속적인 성능 모니터링 및 최적화

기술 & 전문성

Einnosys는 첨단 자동화 전문 지식과 최신 디지털 기술을 결합하여 고성능 APC 솔루션을 제공합니다.

우리의 전문성은 다음과 같습니다

빅 데이터 분석
사물 인터넷(IoT) 통합
산업 자동화 공학
산업 자동화 공학
반도체 공정 최적화
첨단 제조 분석

시스템 아키텍처 / 기술적 접근 방식

Einnosys APC 솔루션은 공정 장비, 계측 도구 및 자동화 시스템에서 실시간 데이터를 수집하는 확장 가능한 아키텍처를 활용합니다. 수집된 데이터는 고급 알고리즘과 AI 모델을 사용하여 분석되며, 이를 통해 공정 매개변수를 자동으로 조정하고 최적의 생산 성능을 유지합니다.

저희의 기술적 접근 방식에는 다음이 포함됩니다.